Im Rahmen der Untersuchungen rund um den positiven lichtempfindlichen Kunststoff der Sulfonsäureimidharze (p-PSPI) wurde eine effektive Methode zur Steuerung des Esterifizierungsgrades des Vorläufers des Polyimidharzes mittels einer Vorbehandlung zum Imid und anschließender Esterifizierung entwickelt und die optimalen Esterifizierungsbedingungen bei 50 °C für 2 Stunden bestimmt. Im Photolithographieprozess wurde eine eingehende Untersuchung der Wirkung von Faktoren wie der Konzentration des Entwicklers, dem Anteil des Fotosensibilisators, der Vorbacktemperatur und -zeit auf die photochemische Reaktion dieses Typs des polyimidharzes p-PSPI durchgeführt. Unter ultravioletter Strahlung mit einer Wellenlänge von 365 nm beträgt der Kontrast 2,5, die Empfindlichkeit beträgt 70 mJ/cm2 und zeigt eine gute Auflösung, die auf einer Glasplatte bis zu 10 µm und auf einem Siliziumwafer bis zu 3 µm erreichen kann. Die Imidesterifizierung hat den Esterifizierungsgrad des Polyimidharzes erheblich verbessert, die Unterschiede in der Lösungsgeschwindigkeit des Fotoresists im Entwicklungsvorgang verbessert und eine ausgezeichnete Fotolithographiekapazität gezeigt, die breite Anwendungsperspektiven in Bereichen wie der Halbleiter, integrierte Schaltungen usw. aufweist.

Lichtempfindliche Sulfonsäureimidharze; Esterifizierung; Fotolithographieprozess; lichtempfindliche Eigenschaften