En torno a la resina fotosensible positiva de los poliimidas (p-PSPI), se ha desarrollado un método eficaz para controlar el grado de esterificación del precursor del poliimida mediante un tratamiento previo al imida seguido de una esterificación, y se han determinado las condiciones óptimas de esterificación a 50 °C durante 2 h. En el proceso de fotolitografía, se ha llevado a cabo un estudio profundo del efecto de factores como la concentración del revelador, el contenido del fotosensibilizador, la temperatura y el tiempo de prehorneado sobre la reacción fotoquímica de este tipo de poliimida. Bajo una radiación ultravioleta con una longitud de onda de 365 nm, el contraste alcanza 2,5, la sensibilidad es de 70 mJ/cm2 y presenta una buena resolución, pudiendo alcanzar los 10 µm en una placa de vidrio y 3 µm en una oblea de silicio. La esterificación del imida ha mejorado considerablemente el grado de esterificación del poliimida, mejorado la diferencia de la velocidad de disolución del fotoresistente en el proceso de revelado, y presentando excelentes capacidades de fotolitografía, con amplias perspectivas de aplicación en los campos de los semiconductores, circuitos integrados, etc.

Poliimida fotosensible; esterificación; proceso de fotolitografía; características fotosensibles