您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
表面起伏光栅形成速率的影响规律Ⅱ.偶氮生色团上甲基取代基的影响
表面起伏光栅形成速率的影响规律Ⅱ.偶氮生色团上甲基取代基的影响
INFLUENCES ON INSCRIPTION RATES OF SURFACE RELIEF GRATINGS Ⅱ. METHYL SUBSTITUENT EFFECT OF AZO CHROMOPHORES
- 2003年第4期 页码:549-553
移动端阅览
HTML全文
参考文献
出版信息
数据统计
92
浏览量
186
下载量
0
CSCD
文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
- BibTeX下载
- Endnote下载
- RefMan 下载
- NoteExpress下载
- NoteFirst下载
相关文章
表面起伏光栅形成速率的影响规律 Ⅰ.偶氮生色团种类和官能度的影响
可溶性聚酰亚胺类偶氮高分子的合成与表征
浸泡法和旋涂法对偶氮聚电解质静电吸附自组装膜结构及性能的影响
偶氮无定形分子材料的合成与表征
旋涂-逐层自组装制备光响应性聚丙烯酸酯类偶氮聚电解质多层膜
相关作者
张民锡
于海峰
庹新林
王艳伟
李昕阳
郭妙才
范鹏伟
车鹏超
相关机构
暂无数据

