正性远紫外抗蚀剂 Ⅱ.聚苯乙烯砜的荧光光谱研究

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正性远紫外抗蚀剂 Ⅱ.聚苯乙烯砜的荧光光谱研究

研究论文 | 更新时间：2021-03-19

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- 正性远紫外抗蚀剂 Ⅱ.聚苯乙烯砜的荧光光谱研究
- A POSITIVE DEEP UV PHOTORESIST Ⅱ. A Study of Fluorescence Spectra of Poly (Styrens-Sulfone)
- 杨永源，冯树京，高志民，吴世康
- 高分子学报 1984年第6期页码：414-419
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