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异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响
研究论文 | 更新时间：2025-07-28
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    • 异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响

    • Effect of Isoimidization of Poly(amic acid) Precursor on Photosensitive Properties of Positive Polyimide Photoresist

    • 步颜倩 ，陆忠刚 ，胡嘉琪 ，董杰 ，赵昕 ，张清华
    • 高分子学报 2025年56卷第8期 页码：1392-1404
    • 作者机构：

      东华大学先进纤维材料全国重点实验室 材料科学与工程学院 上海 201620

    • 作者简介：

      E-mail: dj01@dhu.edu.cn

    • DOI： 10.11777/j.issn1000-3304.2025.25038     

      中图分类号：
    • CSTR： 32057.14.GFZXB.2025.7400     

    • 录用：2025-04-16 ，

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