正性远紫外抗蚀剂 Ⅰ.聚苯乙烯砜的研究

杨永源; 高志民; 冯树京; 吴世康

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正性远紫外抗蚀剂 Ⅰ.聚苯乙烯砜的研究

研究论文 | 更新时间：2021-03-19

- 正性远紫外抗蚀剂 Ⅰ.聚苯乙烯砜的研究
- A POSITIVE DEEP UV PHOTORESIST——Ⅰ. A Study of Poly (Styrene-Sulfone)
- 高分子学报 1984年第6期页码：408-413
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  中图分类号：
- 纸质出版日期：1984-12-20，
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杨永源, 高志民, 冯树京, 吴世康. 正性远紫外抗蚀剂 Ⅰ.聚苯乙烯砜的研究[J]. 高分子学报, 1984,(6):408-413.

YANG Yong-yuan, GAO Zhi-min, FENG Shu-jing, WU Shi-kang. A POSITIVE DEEP UV PHOTORESIST——Ⅰ. A Study of Poly (Styrene-Sulfone)[J]. Acta Polymerica Sinica, 1984,(6):408-413.
杨永源, 高志民, 冯树京, 吴世康. 正性远紫外抗蚀剂 Ⅰ.聚苯乙烯砜的研究[J]. 高分子学报, 1984,(6):408-413. DOI：

YANG Yong-yuan, GAO Zhi-min, FENG Shu-jing, WU Shi-kang. A POSITIVE DEEP UV PHOTORESIST——Ⅰ. A Study of Poly (Styrene-Sulfone)[J]. Acta Polymerica Sinica, 1984,(6):408-413. DOI：

摘要

合成了一种高分辨率的正性远紫外抗蚀剂—聚苯乙烯砜。其灵敏度比PMMA高6.5倍。分辨率达0.75微米

并发现灵敏度与分子量和膜厚有较大的依赖关系

分子量越大

灵敏度越高;膜越薄

灵敏度越高

紫外和红外光谱表明

在光照过程中生成了氢过氧化物和羰基化合物。

Abstract

Poly(styrene-sulfone) has been sythesized and evaluated as a positive deep UV resist for high resolution lithography. The resolution is 0.75 μm. The sensitivity is approximately 6.5 fold higher than PMMA. In this work we have found that the sensitivity depends greatly on the molecular weight and film thickness. The bigger the molecular weight

the higher the sensitivity. The thiner the thickness

the higher the sensitivity. Hydroperoxide and earbonyl group were observed during irradiation by the measurement of IR and VU spectroscopy.

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