四甲基对联苯二胺光敏化聚苯乙烯砜及其模型化合物二苄基砜分解机理的研究

佟振合; 杨永源; 孟宪娟; 冯树京; 高志民

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四甲基对联苯二胺光敏化聚苯乙烯砜及其模型化合物二苄基砜分解机理的研究

研究论文 | 更新时间：2021-03-19

- 四甲基对联苯二胺光敏化聚苯乙烯砜及其模型化合物二苄基砜分解机理的研究
- POLYSTYRENE-SULFONE DEGRADATION AND EXTRUSION OF SO_2 FROM DIBENZYL SULFONE PHOTOSENSITIZED BY TETRAMETHYLBENZIDINE
- 高分子学报 1988年第3期页码：213-218
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  中图分类号：
- 纸质出版日期：1988-6-20，
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佟振合, 杨永源, 孟宪娟, 冯树京, 高志民. 四甲基对联苯二胺光敏化聚苯乙烯砜及其模型化合物二苄基砜分解机理的研究[J]. 高分子学报, 1988,(3):213-218.

TONG Zhen-he, YANG Yong-yuan, MENG Xian-juan, FENG Shu-jing, GAO Zhi-min. POLYSTYRENE-SULFONE DEGRADATION AND EXTRUSION OF SO_2 FROM DIBENZYL SULFONE PHOTOSENSITIZED BY TETRAMETHYLBENZIDINE[J]. Acta Polymerica Sinica, 1988,(3):213-218.
佟振合, 杨永源, 孟宪娟, 冯树京, 高志民. 四甲基对联苯二胺光敏化聚苯乙烯砜及其模型化合物二苄基砜分解机理的研究[J]. 高分子学报, 1988,(3):213-218. DOI：

TONG Zhen-he, YANG Yong-yuan, MENG Xian-juan, FENG Shu-jing, GAO Zhi-min. POLYSTYRENE-SULFONE DEGRADATION AND EXTRUSION OF SO_2 FROM DIBENZYL SULFONE PHOTOSENSITIZED BY TETRAMETHYLBENZIDINE[J]. Acta Polymerica Sinica, 1988,(3):213-218. DOI：

摘要

N、N、 N’、N’-四平基对联苯二胺(NTMB)和 3、3’、5、5’-四甲基对联苯二胺(TMB)可以有效地光敏化二苄基砜(DBS)分解和聚苯乙烯砜(PSS)降解。敏化作用是按电子转移机理进行的

电子转移过程可以由NTMB的单重激发态

也可以由三重激发态发生。由三重态电子转移产生的三重态离子自由基对进一步反应生成产物的效率比单重态离子自由基对的效率高10倍。

Abstract

N'-tetramethylbenzidine (NTMB) and 3

3' 5

5'-tetramethylbenzidine (TMB) photosensitize the extrusion of SO2 from dibenzyl sulfone (DBS) and degradation of polystyrene-sulfone (PSS). .Both singlet and triplet sensitization are observed. An electron transfer mechanism is proposed to explain the results. The efficiency of triplet sensitization is much higher than that of singlet sensitization.

关键词

电子转移光敏化聚苯乙烯砜降解四甲基对联苯二胺敏化剂敏化量子产率离子自由基对

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