您当前的位置：
首页 >
文章列表页 >
聚合物在无显影气相光刻工艺中的作用
研究论文 | 更新时间：2021-03-19
|

    • 聚合物在无显影气相光刻工艺中的作用

    • EFFECTS OF POLYMERS UPON THE DEVELOPMENT FREE VAPOR PHOTOLITHOGRAPHY

    • 高分子学报   1994年第2期 页码：162-167

    • 纸质出版日期：1994-4-20，

    扫 描 看 全 文

  • 洪啸吟, 刘丹, 李钟哲, 董桂荣. 聚合物在无显影气相光刻工艺中的作用[J]. 高分子学报, 1994,(2):162-167. DOI：

    HONG Xiao-yin, LIU Dan, LI Zhong-zhe, DONG Gui-rong. EFFECTS OF POLYMERS UPON THE DEVELOPMENT FREE VAPOR PHOTOLITHOGRAPHY[J]. Acta Polymerica Sinica, 1994,(2):162-167. DOI：

  •  
  •  
更多指标>

0

浏览量

8

下载量

2

CSCD

文章被引用时，请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

氟化氢与涂有聚合物膜下二氧化硅的反应研究

相关作者

暂无数据

相关机构

暂无数据
0