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光敏层厚度与退火温度调控对聚3-己基噻吩光电探测器性能的影响
论文 | 更新时间:2021-01-26
    • 光敏层厚度与退火温度调控对聚3-己基噻吩光电探测器性能的影响

    • Effects of Annealing Temperature and Active Layer Thickness on the Photovoltaic Performance of Poly(3-hexylthiophene) Photodetector

    • 高分子学报   2020年51卷第4期 页码:338-345
    • 作者机构:

      大连理工大学高分子材料系 精细化工国家重点实验室 大连 116024

    • 作者简介:

      E-mail: wqqiao@dlut.edu.cn Wen-qiang Qiao, E-mail: wqqiao@dlut.edu.cn

      E-mail: wwjoy@dlut.edu.cn Zhi-yuan Wang, E-mail: wwjoy@dlut.edu.cn

    • DOI:10.11777/j.issn1000-3304.2019.19206    

      中图分类号:
    • 纸质出版日期:2020-4

      网络出版日期:2020-1-21

      收稿日期:2019-12-6

      修回日期:2019-12-24

    扫 描 看 全 文

  • 高诗佳, 王鑫, 张育林, 张赛, 乔文强, 王植源. 光敏层厚度与退火温度调控对聚3-己基噻吩光电探测器性能的影响[J]. 高分子学报, 2020,51(4):338-345. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2019.19206.

    Shi-jia Gao, Xin Wang, Yu-lin Zhang, Sai Zhang, Wen-qiang Qiao, Zhi-yuan Wang. Effects of Annealing Temperature and Active Layer Thickness on the Photovoltaic Performance of Poly(3-hexylthiophene) Photodetector[J]. Acta Polymerica Sinica, 2020,51(4):338-345. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2019.19206.

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