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自扩散过程中聚二甲基硅氧烷印章微结构表面力学性能研究
研究论文 | 更新时间:2023-06-21
    • 自扩散过程中聚二甲基硅氧烷印章微结构表面力学性能研究

    • Research on Surface Mechanical Properties of Polydimethylsiloxane Stamp Microstructures in Self-diffusion Process

    • 高分子学报   2023年54卷第7期 页码:1113-1121
    • 作者机构:

      1.江南大学机械工程学院 无锡 214122

      2.中国科学院兰州化学物理研究所 兰州 730000

    • 作者简介:

      E-mail: yu.liu@vip.163.com

      wangxl@licp.cas.cn

    • DOI:10.11777/j.issn1000-3304.2022.22379    

      中图分类号:
    • 纸质出版日期:2023-07-20

      网络出版日期:2023-02-24

      收稿日期:2022-11-25

      录用日期:2023-01-18

    扫 描 看 全 文

  • 夏栩婷,任俊,杨彧涵等.自扩散过程中聚二甲基硅氧烷印章微结构表面力学性能研究[J].高分子学报,2023,54(07):1113-1121. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2022.22379.

    Xia Xu-ting,Ren Jun,Yang Yu-han,et al.Research on Surface Mechanical Properties of Polydimethylsiloxane Stamp Microstructures in Self-diffusion Process[J].ACTA POLYMERICA SINICA,2023,54(07):1113-1121. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2022.22379.

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