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二维超薄聚合物基纳米片的制备与光响应行为研究
研究论文 | 更新时间:2026-02-11
    • 二维超薄聚合物基纳米片的制备与光响应行为研究

    • Fabrication and Photo-responsive Behavior of Two-dimensional Ultrathin Polymeric Nanosheets

    • 高分子学报   2026年57卷第3期 页码:776-785
    • 作者机构:

      华东理工大学材料科学与工程学院 上海市先进聚合物材料重点实验室 上海 200237

    • 作者简介:

      E-mail: haibaojin@ecust.edu.cn

      slin@ecust.edu.cn

    • DOI:10.11777/j.issn1000-3304.2025.25244    

      中图分类号:
    • CSTR:32057.14.GFZXB.2025.7511    
    • 收稿:2025-09-21

      录用:2025-11-10

      网络首发:2026-01-14

      纸质出版:2026-03-20

    移动端阅览

  • 王苗苗, 曹蕴青, 武鹏超, 张栋鑫, 靳海宝, 林绍梁. 二维超薄聚合物基纳米片的制备与光响应行为研究. 高分子学报, 2026, 57(3), 776-785. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2025.25244. CSTR: 32057.14.GFZXB.2025.7511.

    Wang, M. M.; Cao, Y. Q.; Wu, P. C.; Zhang, D. X.; Jin, H. B.; Lin, S L. Fabrication and photo-responsive behavior of two-dimensional ultrathin polymeric nanosheets. Acta Polymerica Sinica (in Chinese), 2026, 57(3), 776-785. DOI: 10.11777/j.issn1000-3304.2025.25244. CSTR: 32057.14.GFZXB.2025.7511.

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